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文献
J-GLOBAL ID：202202264234254198
整理番号：22A0442344
水素発生反応のための金属ドープ窒素含有グラフェンに及ぼすH_2O単分子層の増強効果【JST・京大機械翻訳】
Enhanced effect of H2O monolayer on metal doped nitrogen-containing graphene for hydrogen evolution reactions
Liu Xiaojing
(Engineering Research Center of Advanced Functional Material Manufacturing of Ministry of Education, Zhengzhou University, Zhengzhou 450001, China)
,
Shen Xiangjian
(Engineering Research Center of Advanced Functional Material Manufacturing of Ministry of Education, Zhengzhou University, Zhengzhou 450001, China)
資料名：
Chemical Engineering Journal
(Chemical Engineering Journal)
巻： 431 号： P4 ページ： Null 発行年： 2022年
JST資料番号： D0723A ISSN： 1385-8947 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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