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文献
J-GLOBAL ID：202202265445192239
整理番号：22A0389021
中性ビームエッチングによるEUVレジスト損傷の低減【JST・京大機械翻訳】
Reduction of EUV resist damage by neutral beam etching
Kim Gyo Wun
(School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon, 440-746, Republic of Korea)
,
Chang Won Jun
(School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon, 440-746, Republic of Korea)
,
Kang Ji Eun
(School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon, 440-746, Republic of Korea)
,
Kim Hee Ju
(School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon, 440-746, Republic of Korea)
,
Yeom Geun Young
(School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon, 440-746, Republic of Korea)
,
Yeom Geun Young
(SKKU Advanced Institute of Nano Technology (SAINT), Sungkyunkwan University, Suwon, 440-746, Republic of Korea)
資料名：
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻： 33 号： 9 ページ： 095301 (8pp) 発行年： 2022年
JST資料番号： W0108A ISSN： 0957-4484 CODEN： NNOTER 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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