文献
J-GLOBAL ID:202202265659653381
整理番号:22A0728429
標準Si(100)マイクロエレクトロニクス基板上のIII-V垂直ナノワイヤの大規模モノリシック作製【JST・京大機械翻訳】
Large-Scale Monolithic Fabrication of III-V Vertical Nanowires on a Standard Si(100) Microelectronic Substrate
著者 (5件):
Lecestre Aurelie
(LAAS-CNRS, Universite de Toulouse, CNRS, INP, France)
,
Martin Mickael
(Univ. Grenoble Alpes, CNRS, CEA-Leti/Minatec, Grenoble INP, LTM, France)
,
Cristiano Filadelfo
(LAAS-CNRS, Universite de Toulouse, CNRS, INP, France)
,
Baron Thierry
(Univ. Grenoble Alpes, CNRS, CEA-Leti/Minatec, Grenoble INP, LTM, France)
,
Larrieu Guilhem
(LAAS-CNRS, Universite de Toulouse, CNRS, INP, France)
資料名:
ACS Omega
(ACS Omega)
巻:
7
号:
7
ページ:
5836-5843
発行年:
2022年
JST資料番号:
W5044A
ISSN:
2470-1343
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)