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文献
J-GLOBAL ID：202202272641972212
整理番号：22A0178688
工業システムにおける高出力インパルスマグネトロンスパッタリングにより蒸着したTi薄膜:低表面粗さのためのプロセスパラメータ【JST・京大機械翻訳】
Ti thin films deposited by high-power impulse magnetron sputtering in an industrial system: Process parameters for a low surface roughness
Suliali Nyasha J.
(Department of Physics, Nelson Mandela University, P.O. Box 77000, Port Elizabeth, 6031, South Africa)
,
Goosen William E.
(Department of Physics, Nelson Mandela University, P.O. Box 77000, Port Elizabeth, 6031, South Africa)
,
Goosen William E.
(Centre for HRTEM, Nelson Mandela University, P.O. Box 77000, Port Elizabeth, 6031, South Africa)
,
Janse van Vuuren Arno
(Department of Physics, Nelson Mandela University, P.O. Box 77000, Port Elizabeth, 6031, South Africa)
,
Janse van Vuuren Arno
(Centre for HRTEM, Nelson Mandela University, P.O. Box 77000, Port Elizabeth, 6031, South Africa)
,
Olivier Ezra J.
(Department of Physics, Nelson Mandela University, P.O. Box 77000, Port Elizabeth, 6031, South Africa)
,
Olivier Ezra J.
(Centre for HRTEM, Nelson Mandela University, P.O. Box 77000, Port Elizabeth, 6031, South Africa)
,
Bakhit Babak
(Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, 581 83, Linkoping, Sweden)
,
Hogberg Hans
(Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, 581 83, Linkoping, Sweden)
,
Darakchieva Vanya
(Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, 581 83, Linkoping, Sweden)
,
Botha Johannes R.
(Department of Physics, Nelson Mandela University, P.O. Box 77000, Port Elizabeth, 6031, South Africa)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 195 ページ： Null 発行年： 2022年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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