文献
J-GLOBAL ID:202202272745169135
整理番号:22A1043687
c-C_4F_8誘導結合プラズマのプラズマ動力学の再検討【JST・京大機械翻訳】
Plasma kinetics of c-C4F8 inductively coupled plasma revisited
著者 (4件):
Levko Dmitry
(Esgee Technologies Inc., Austin, Texas 78746)
,
Shukla Chandrasekhar
(Esgee Technologies Inc., Austin, Texas 78746)
,
Suzuki Kenta
(Esgee Technologies Inc., Austin, Texas 78746)
,
Raja Laxminarayan L.
(Department of Aerospace Engineering and Engineering Mechanics, The University of Texas at Austin, Austin, Texas 78712)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻:
40
号:
2
ページ:
022203-022203-19
発行年:
2022年
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
2166-2746
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)