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文献
J-GLOBAL ID：202202273244253599
整理番号：22A1043670
その場極端紫外リソグラフィースキャナ洗浄のための小型プラズマ源【JST・京大機械翻訳】
Miniature plasma source for in situ extreme ultraviolet lithographic scanner cleaning
de Kerkhof Mark van
(Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, PO Box 513, 5600MB Eindhoven, The Netherlands)
,
Osorio Edgar
(ASML Netherlands B.V., P.O. Box 324, 5500AH Veldhoven, The Netherlands)
,
Krivtsun Vladimir
(Institute of Spectroscopy of the Russian Academy of Sciences, Troitsk, Moscow 108840, Russia)
,
Spiridonov Maxim
(Space Research Institute, Russian Academy of Sciences, Moscow 117997, Russia)
,
Astakhov Dmitry
(Institute of Spectroscopy of the Russian Academy of Sciences, Troitsk, Moscow 108840, Russia)
,
Medvedev Viacheslav
(Institute of Spectroscopy of the Russian Academy of Sciences, Troitsk, Moscow 108840, Russia)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 40 号： 2 ページ： 022601-022601-7 発行年： 2022年
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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