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文献
J-GLOBAL ID：202202273291274273
整理番号：22A0159428
金属薄膜上のその場TEMナノメカニカル引張試験中の電子ビーム効果の理解と定量化【JST・京大機械翻訳】
Understanding and quantifying electron beam effects during in situ TEM nanomechanical tensile testing on metal thin films
Stangebye Sandra
(School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA 30332, USA)
,
Zhang Yin
(Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA 30332, USA)
,
Gupta Saurabh
(Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA 30332, USA)
,
Zhu Ting
(Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA 30332, USA)
,
Pierron Olivier
(Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA 30332, USA)
,
Kacher Josh
(School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA 30332, USA)
資料名：
Acta Materialia
(Acta Materialia)
巻： 222 ページ： Null 発行年： 2022年
JST資料番号： A0316A ISSN： 1359-6454 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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