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文献
J-GLOBAL ID：202202274152892492
整理番号：22A0230682
異なる入射角に対するSi(100)の投射体質量依存ナノパターン形成【JST・京大機械翻訳】
Projectile’s mass-dependent nanopatterning of Si (100) for different incidence angles
Vandana
(Department of Physics, Kurukshetra University, Kurukshetra 136119, India)
,
Chhokkar Preeti
(Department of Physics, Kurukshetra University, Kurukshetra 136119, India)
,
Chhokkar Preeti
(Department of Physics, Govt College, Bherian, Kurukshetra 136119, India)
,
Kumar Sushil
(Department of Nanosciences & Materials, Central University of Jammu, Jammu 181143, India)
,
Singh Vinamrita
(Department of Applied Sciences & Humanities, Netaji Subhas University of Technology, East Campus, Delhi 110031, India)
,
Pandey Ratnesh K
(Department of Physics, School of Engineering, University of Petroleum and Energy Studies, Dehradun 248007, Uttarakhand, India)
,
Kumar Tanuj
(Department of Nanosciences & Materials, Central University of Jammu, Jammu 181143, India)
,
Kumar Shyam
(Department of Physics, Kurukshetra University, Kurukshetra 136119, India)
資料名：
Materials Letters
(Materials Letters)
巻： 309 ページ： Null 発行年： 2022年
JST資料番号： E0935A ISSN： 0167-577X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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