文献
J-GLOBAL ID:202202275248126253
整理番号:22A1186471
5μm以下の画素サイズを有する高分解能パターン形成PQDの微細孔充填製造【JST・京大機械翻訳】
Micropore filling fabrication of high resolution patterned PQDs with a pixel size less than 5 μm
著者 (10件):
Sun Wenchao
(State Key Laboratory of Applied Optics, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun, Jilin 130033, China. taojin@ciomp.ac.cn)
,
Li Fei
,
Tao Jin
,
Li Panyuan
,
Zhu Licai
,
Li Jiwei
,
Lv Jinguang
,
Wang Weibiao
,
Liang Jingqiu
,
Zhong Haizheng
資料名:
Nanoscale
(Nanoscale)
巻:
14
号:
16
ページ:
5994-5998
発行年:
2022年
JST資料番号:
W2323A
ISSN:
2040-3364
CODEN:
NANOHL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)