文献
J-GLOBAL ID:202202278590026578
整理番号:22A1649150
有機分子膜上の官能基を利用した金属酸化物の空間選択的原子層堆積
Area-selective atomic layer deposition of metal oxides on organic molecular layers
著者 (12件):
小野赳
(東大 大学院)
,
細見拓郎
(東大 大学院)
,
細見拓郎
(JST-さきがけ)
,
長島一樹
(東大 大学院)
,
長島一樹
(JST-さきがけ)
,
高橋綱己
(東大 大学院)
,
高橋綱己
(JST-さきがけ)
,
田中航
(東大 大学院)
,
金井真樹
(東大 大学院)
,
斉藤光
(九大 先導研)
,
柳田剛
(東大 大学院)
,
柳田剛
(九大 先導研)
資料名:
日本化学会春季年会講演予稿集(Web)
(日本化学会春季年会(Web))
巻:
102nd
ページ:
ROMBUNNO.D201-1am-06 (WEB ONLY)
発行年:
2022年
JST資料番号:
U2384A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)