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文献
J-GLOBAL ID：202202279500699886
整理番号：22A0974660
電極触媒窒素還元を強化するためのRh原子層修飾SnO_2ヘテロ構造の界面Electron制御【JST・京大機械翻訳】
Interfacial Electron Regulation of Rh Atomic Layer-Decorated SnO2 Heterostructures for Enhancing Electrocatalytic Nitrogen Reduction
Liu Yongqin
(College of Chemistry, Jilin University, Jilin, P. R. China)
,
Liu Yongqin
(State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China)
,
Huang Liang
(State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China)
,
Fang Youxing
(State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China)
,
Zhu Xinyang
(State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China)
,
Nan Jianli
(College of Chemistry, Jilin University, Jilin, P. R. China)
,
Dong Shaojun
(College of Chemistry, Jilin University, Jilin, P. R. China)
,
Dong Shaojun
(State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China)
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 14 号： 10 ページ： 12304-12313 発行年： 2022年
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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