文献
J-GLOBAL ID:202202282679463262
整理番号:22A1082284
非ヒドラジンベース溶液処理経路による細粒フリー2ミクロン厚CISe/CIGSe膜製造を可能にする【JST・京大機械翻訳】
Enabling fine-grain free 2-micron thick CISe/CIGSe film fabrication via a non-hydrazine based solution processing route
著者 (5件):
Deshmukh Swapnil D.
(Davidson School of Chemical Engineering, Purdue University, West Lafayette, IN 47907, USA)
,
Weideman Kyle G.
,
Ellis Ryan G.
,
Kisslinger Kim
,
Agrawal Rakesh
資料名:
Materials Advances
(Materials Advances)
巻:
3
号:
7
ページ:
3293-3302
発行年:
2022年
JST資料番号:
W6469A
ISSN:
2633-5409
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)