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文献
J-GLOBAL ID：202202283988662550
整理番号：22A1162695
窒素還元反応のための欠陥2Dシリコンリン化物単分子層:DFT研究【JST・京大機械翻訳】
Defective 2D silicon phosphide monolayers for the nitrogen reduction reaction: a DFT study
Guo Zhongyuan
(Science & Technology Innovation Institute, Dongguan University of Technology, Dongguan 523808, China. qiusy@dgut.edu.cn)
,
Wang Tianyi
,
Liu Haikun
,
Qiu Siyao
,
Zhang Xiaoli
,
Xu Yongjun
,
Langford Steven J.
,
Sun Chenghua
資料名：
Nanoscale
(Nanoscale)
巻： 14 号： 15 ページ： 5782-5793 発行年： 2022年
JST資料番号： W2323A ISSN： 2040-3364 CODEN： NANOHL 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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