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文献
J-GLOBAL ID:202202290558367872   整理番号:22A1043679

極端紫外ダマシン拡張の詳細な実現可能性研究:パターン形成,誘電エッチおよびメタライゼーション【JST・京大機械翻訳】

In-depth feasibility study of extreme ultraviolet damascene extension: Patterning, dielectric etch, and metallization
著者 (10件):
Sun Xinghua
(TEL Technology Center, America, LLC, 255 Fuller Road, Suite 214, Albany, New York 12203)
Mignot Yann
(IBM Research Albany, 257 Fuller Road, Albany, New York 12203)
Cole Christopher
(TEL Technology Center, America, LLC, 255 Fuller Road, Suite 214, Albany, New York 12203)
Liu Eric
(TEL Technology Center, America, LLC, 255 Fuller Road, Suite 214, Albany, New York 12203)
Santos Daniel
(TEL Technology Center, America, LLC, 255 Fuller Road, Suite 214, Albany, New York 12203)
Raley Angelique
(TEL Technology Center, America, LLC, 255 Fuller Road, Suite 214, Albany, New York 12203)
Church Jennifer
(IBM Research Albany, 257 Fuller Road, Albany, New York 12203)
Meli Luciana
(IBM Research Albany, 257 Fuller Road, Albany, New York 12203)
Sieg Stuart A.
(IBM Research Albany, 257 Fuller Road, Albany, New York 12203)
Biolsi Peter
(TEL Technology Center, America, LLC, 255 Fuller Road, Suite 214, Albany, New York 12203)

資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)

巻: 40  号:ページ: 023207-023207-9  発行年: 2022年 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 2166-2746  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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