文献
J-GLOBAL ID:202202296277897782
整理番号:22A0223916
スパッタリングプロセスパラメータを制御する圧電センシング応用のためのc軸配向AlN薄膜の最適化に関する研究【JST・京大機械翻訳】
Study on optimizing c-axis oriented AlN thin film for piezoelectric sensing applications controlling the sputtering process parameters
著者 (3件):
Vanamoorthy M.
(PSG Institute of Advanced Studies (PSGIAS), Coimbatore, India)
,
Salim B.
(PSG Institute of Advanced Studies (PSGIAS), Coimbatore, India)
,
Mohanta K.
(PSG Institute of Advanced Studies (PSGIAS), Coimbatore, India)
資料名:
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻:
128
号:
1
ページ:
48
発行年:
2022年
JST資料番号:
D0256C
ISSN:
0947-8396
CODEN:
APHYCC
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)