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J-GLOBAL ID：202302272293972746 整理番号：23A1544703

プロトン拡散と紫外光照射で分解するアリールケイ素架橋型高分子材料の開発

Development of Aryl Silicon-Crosslinked Polymer Material Degradable by Proton Diffusion and UV Irradiation

著者 (5件)：

中川智稀

(東大大学院)

正井宏

(東大大学院)

青木健太郎

(北陸先端科学技術大学院大)

長尾祐樹

(北陸先端科学技術大学院大)

寺尾潤

(東大大学院)

資料名：

日本化学会春季年会講演予稿集(Web) (日本化学会春季年会(Web))

巻： 103rd ページ： ROMBUNNO.K301-3am-03 (WEB ONLY) 発行年： 2023年
JST資料番号： U2384A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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