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J-GLOBAL ID：200902095671128152   整理番号：92A0831582

NH4F処理Si表面上のヘキサフルオロ珪酸塩形成

Formation of hexafluorosilicate salt on Si surface treated in NH4F solution.
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著者 (4件)：
栗田一成

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(東北大)

東北大 について

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庭野道夫

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(東北大)

東北大 について

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木梨幸治

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(東北大)

東北大 について

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宮本信雄

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(東北大)

東北大 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 53rd  号： 2  ページ： 571  発行年： 1992年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
タイトルに関連する用語 (3件)：
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NH4F

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Si

Si について

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フルオロ珪酸塩

フルオロ珪酸塩 について


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