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J-GLOBAL ID：200902105738349588   整理番号：96A0420840

a-Si:H薄膜の表面反応

Surface Reaction of a-Si:H Thin Film Deposition.

著者 (3件)： 石塚穂高 (東京理大 基礎工) ,  梅津郁朗 (東京理大 基礎工) ,  前田敬二 (東京理大 基礎工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 43rd  号： 2  ページ： 837  発行年： 1996年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (3件)： Si ,  薄膜 ,  表面反応