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J-GLOBAL ID：200902105931839118   整理番号：94A0902786

Si細線上TiシリサイデーションにおけるSi表面処理効果

The Effects of Silicon Surface Treatment on Ti Silicidation for Narrow Si Patterns.

著者 (5件)： 斎藤幸重 (NEC) ,  松木武雄 (NEC) ,  若林整 (NEC) ,  最上徹 (NEC) ,  国尾武光 (NEC)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 55th  号： 2  ページ： 666  発行年： 1994年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： Si ,  細線 ,  Ti ,  表面処理