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J-GLOBAL ID：200902106889212823   整理番号：94A0903009

a-SiNx:H/a-Si:H及びa-SiOx:H/a-Si:Hの界面準位による光吸収の組成比依存性

Correlation between photo absorption at interface states and composition of films.
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著者 (4件)：
土田貴嗣

土田貴嗣 について

(東京理大 基礎工)

東京理大 基礎工 について

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梅津郁朗

梅津郁朗 について

(東京理大 基礎工)

東京理大 基礎工 について

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桑村尚宏

桑村尚宏 について

(東京理大 基礎工)

東京理大 基礎工 について

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前田敬二

前田敬二 について

(東京理大 基礎工)

東京理大 基礎工 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 55th  号： 2  ページ： 766  発行年： 1994年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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Si

Si について

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界面準位

界面準位 について

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光吸収

光吸収 について

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組成比

組成比 について

, 
依存性

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