RFスパッタ法により作製したa-SiO<sub>x</sub>薄膜の発光

文献

J-GLOBAL ID：200902109822639031 整理番号：99A0581320

RFスパッタ法により作製したa-SiO_x薄膜の発光

Photoluminescence of a-SiO_x thin films prepared by RF-sputtering method.

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資料名：
巻： 59th 号： 2 ページ： 820 発行年： 1998年09月
JST資料番号： Y0055A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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