文献

J-GLOBAL ID：200902124076840426   整理番号：98A0784756

シリコンの表面プラズマ処理と表面状態

Effects of plasma surface treatments on the surface of single-crystal silicon.

著者 (5件)： 梅津郁朗 (甲南大) ,  小浜芳春 (甲南大) ,  青木かおり (甲南大) ,  山崎敏行 (甲南大) ,  杉村陽 (甲南大)
資料名： Memoirs of Konan University. Science and Engineering Series  (Memoirs of Konan University. Science and Engineering Series)
巻： 45  号： 1  ページ： 69-76  発行年： 1998年07月 
JST資料番号： F0795A  ISSN： 1348-0383  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ArおよびH₂による表面プラズマ処理が...

シソーラス用語： *プラズマ曝露 ,...
準シソーラス用語： プラズマプロセシング

   このテーマを更に深掘りする（JDreamⅢへ）  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=98A0784756&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0795A") }}

分類 (3件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  試料技術  (BA02070O) ,  半導体の表面構造  (BK15030A)

タイトルに関連する用語 (1件)： シリコン