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J-GLOBAL ID：200902137408262116   整理番号：96A0784858

超LSI技術 20 デバイスとプロセス その10 パネルディスカッション総合質疑討論

VLSI technology. 20. Devices and processes. No. 10. Panel discussion - Overall questions and discussion.

著者 (9件)： 西沢潤一 (東北大) ,  山下一博 (松下電器産業) ,  岩井洋 (東芝 ULSI研) ,  芝原健太郎 (広島大 集積化システム研セ) ,  羽根正巳 (NEC マイクロエレクトロニクス研) ,  大槻純人 (東芝マイクロエレクトロニクス) ,  塙哲郎 (三菱電機 ULSI開研) ,  角田茂幸 (セイコー電子工業) ,  栗田一成 (三菱マテリアル 中研)
資料名： 半導体研究
巻： 42  ページ： 295-332  発行年： 1996年08月 
JST資料番号： X0816A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本書は,サブ0.1μm世代に向けて各プロセスを基礎から見直し...

シソーラス用語： 超LSI ,...

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分類 (1件)： 集積回路一般  (NC03161C)

タイトルに関連する用語 (5件)： LSI ,  プロセス ,  パネルディスカッション ,  総合 ,  質疑