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J-GLOBAL ID：200902149889477240   整理番号：94A0902783

選択Si堆積とプリアモルファス化によるTiSi₂膜形成

TiSi2 film formation on narrow Si patterns by SEDAM process.

著者 (6件)： 最上徹 (NEC) ,  若林整 (NEC) ,  斉藤幸重 (NEC) ,  松木武雄 (NEC) ,  辰巳徹 (NEC) ,  国尾武光 (NEC)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 55th  号： 2  ページ： 665  発行年： 1994年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (3件)： Si ,  堆積 ,  膜形成