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J-GLOBAL ID：200902150559440390   整理番号：98A0506571

レーザーアブレーション法で作製されたSi超微粒子の熱処理と発光

Photoluminescence of silicon nanocrystallitse prepared by inert gas ambient pulsed laser ablation.

著者 (8件)： 柴田耕作 (甲南大 理) ,  山口尚士 (甲南大 理) ,  吉田謙一 (甲南大 理) ,  梅津郁朗 (甲南大 理) ,  杉村陽 (甲南大 理) ,  山田由佳 (松下技研) ,  吉田岳人 (松下技研) ,  猪熊孝夫 (金沢大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 45th  号： 2  ページ： 839  発行年： 1998年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザーアブレーション法 ,  作製 ,  Si ,  超微粒子 ,  熱処理