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J-GLOBAL ID：200902159348768884   整理番号：02A0472481

シリコン微粒子のラジカルガンを用いた窒素による表面処理効果

著者 (5件)： 吉田謙一 (甲南大) ,  十王寺勝哉 (甲南大) ,  稲田貢 (甲南大 HRC) ,  梅津郁朗 (甲南大) ,  杉村陽 (甲南大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 49th  号： 3  ページ： 1473  発行年： 2002年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 半導体の放射線による構造と物性の変化  (BK16123E) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリコン ,  微粒子 ,  窒素 ,  表面処理