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J-GLOBAL ID：200902162592689083   整理番号：95A1009360

a-Si:Hの膜特性の堆積条件依存性 I

Deposition Condition and Characteristics of a-Si:H. I.

著者 (5件)： 石塚穂高 (東京理大 基礎工) ,  阿高正浩 (東京理大 基礎工) ,  宮本憲一 (東京理大 基礎工) ,  梅津郁朗 (東京理大 基礎工) ,  前田敬二 (東京理大 基礎工)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 56th  号： 2  ページ： 773  発行年： 1995年08月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： Si ,  膜特性 ,  堆積 ,  依存性