文献
J-GLOBAL ID：200902178158692789   整理番号：95A1009283

Al/a-SiNx:H/c-Si MIS構造のC-V特性におけるプラズマ処理効果

Effects of Plasma Treatment on C-V Characteristics of Al/a-SiNx:H/c-Si MIS Capacitors.
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著者 (3件)：
藤村基晴

藤村基晴 について

(東京理大 基礎工)

東京理大 基礎工 について

, 
前田敬二

前田敬二 について

(東京理大 基礎工)

東京理大 基礎工 について

, 
梅津郁朗

梅津郁朗 について

(東京理大 基礎工)

東京理大 基礎工 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 56th  号： 2  ページ： 735  発行年： 1995年08月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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Al

Al について

, 
Si

Si について

, 
MIS構造

MIS構造 について

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プラズマ処理

プラズマ処理 について


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