フェノール-(NH3)nクラスタの光化学 電子励起状態におけるOH結合のラジカル開裂に対する溶媒効果および生成物NH4(NH3)n-1(n≦5)中のクラスタ内反応

DAIGOKU K; ISHIUCHI S; SAKAI M; FUJII M; HASHIMOTO K

文献

J-GLOBAL ID：200902201983267952 整理番号：03A0637631

フェノール-(NH₃)_nクラスタの光化学電子励起状態におけるOH結合のラジカル開裂に対する溶媒効果および生成物NH₄(NH₃)_n-1(n≦5)中のクラスタ内反応

Photochemistry of phenol-(NH₃)_n clusters: Solvent effect on a radical cleavage of an OH bond in an electronically excited state and intracluster reactions in the product NH₄(NH₃)_n-1(n≦5)

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資料名：
巻： 119 号： 10 ページ： 5149-5158 発行年： 2003年09月08日
JST資料番号： C0275A ISSN： 0021-9606 CODEN： JCPSA6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

PhOH-(NH3)0,1<...

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分子化合物 , 光化学反応 , 芳香族単環フェノール類・多価フェノール

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フェノール-(NH3)nクラスタの光化学 電子励起状態におけるOH結合のラジカル開裂に対する溶媒効果および生成物NH4(NH3)n-1(n≦5)中のクラスタ内反応

フェノール-(NH₃)_nクラスタの光化学電子励起状態におけるOH結合のラジカル開裂に対する溶媒効果および生成物NH₄(NH₃)_n-1(n≦5)中のクラスタ内反応