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J-GLOBAL ID：200902210623471116   整理番号：08A0944311

レーザーアブレーション法におけるSiナノ結晶の集合体構造の形成に対する表面水素化の効果

著者 (5件)： 大久保旬人 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 量子ナノテク研) ,  杉村陽 (甲南大 理工) ,  杉村陽 (甲南大 量子ナノテク研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 3  ページ： 1003  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ナノ結晶 ,  *ケイ素 ,  *パルスレーザ照射 ,  レーザアブレーション ,  雰囲気 ,  混合気体 ,  水素 ,  ヘリウム ,  凝集体 ,  *ナノ複合材料 ,  形状測定 ,  電子顕微鏡観察
準シソーラス用語： 集合体 ,  *微細複合体

分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  結晶結合  (BK05020K)

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザーアブレーション法 ,  Si ,  ナノ結晶 ,  集合体 ,  水素化