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J-GLOBAL ID：200902223656366061   整理番号：09A0506463

エクストリームフォトニクス研究 高出力エッジ励起Yb:YAGマイクロチップレーザーからのパルス発生

著者 (4件)： 大石裕 (理研) ,  大石裕 (岡崎国立共同研究機構 分子科研) ,  緑川克美 (理研) ,  平等拓範 (岡崎国立共同研究機構 分子科研)
資料名： エクストリームフォトニクス研究 第7回理研・分子研合同シンポジウム 平成20年
ページ： 117-118  発行年： 2008年 
JST資料番号： N20091101  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *固体レーザ ,  *イットリウムアルミニウムガーネット ,  *ドーピング ,  イッテルビウム ,  パルスレーザ ,  *非線形光学 ,  Qスイッチング ,  電磁波 ,  レーザ共振器 ,  *製品設計 ,  *レーザ損傷 ,  テラヘルツ波 ,  *マイクロチップレーザ
準シソーラス用語： YAG【ガーネット】

分類 (1件)： 固体レーザ  (BD04080W)

タイトルに関連する用語 (8件)： 研究 ,  高出力 ,  エッジ ,  励起 ,  Yb ,  YAG ,  マイクロチップレーザー ,  パルス発生