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J-GLOBAL ID：200902227074558336   整理番号：07A0920895

ナノ結晶シリコンのレーザーアブレーション過程と表面生成機構

Formation processes of silicon nanocrystallites and their surface by pulsed laser ablation

著者 (2件)： 梅津郁朗 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 量子ナノテクノロジー研)
資料名： 日本板硝子材料工学助成会成果報告書(CD-ROM)  (Nippon Sheet Glass Foundation for Materials Science and Engineering Report (CD-ROM))
巻： 25  ページ： 42-46  発行年： 2007年 
JST資料番号： X0948B  ISSN： 1883-3128  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 水素ガス中でレーザーアブレーションを行うとシリコンと水素は合...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...
準シソーラス用語： *シリコン

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分類 (1件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X)

引用文献 (7件)：

• K. Matsumoto, M. Inada, I. Umezu and A. Sugimura: Jpn. J. Appl. Phys.44(, 2005)8742.
• I. Umezu, K. Matsumoto, M. Inada, T. Makino and A. Sugimura: Appl. Phys. A 79(, 2004)1545.
• T. Makino, M. Inada, I. Umezu and A. Sugimura: J. Phys. D 38(, 2005)3507.
• D. Baeuerle. Laser Processing and Chemistry (Springer-Verlag, Berlin, 2000)
• B. S. Luk’yanchuk, W. Marine and S. I. Anisimov: Laser Physics 8(, 1998)291.

タイトルに関連する用語 (3件)： ナノ結晶シリコン ,  レーザーアブレーション ,  過程