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J-GLOBAL ID：200902229922576857   整理番号：05A0569810

ELと光学技術 Cat-CVD法による水蒸気バリア薄膜の低温形成

著者 (9件)： 南川俊治 (石川県工試) ,  部家彰 (石川県工試) ,  高野昌宏 (石川県工試) ,  米沢保人 (石川県工試) ,  仁木敏一 (石川製作所) ,  南茂平 (石川製作所) ,  増田淳 (北陸先端科学技術大学院大) ,  梅本宏信 (北陸先端科学技術大学院大) ,  松村英樹 (北陸先端科学技術大学院大)
資料名： 光技術コンタクト  (Optical and Electro-Optical Engineering Contact)
巻： 43  号： 6  ページ： 328-333  発行年： 2005年06月20日 
JST資料番号： S0624A  ISSN： 0913-7289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 有機EL材料は酸素や水蒸気と容易に反応し劣化するため,封止技...

シソーラス用語： *エレクトロルミネセンス ,...
準シソーラス用語： 化学気相成長法 ,...

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分類 (2件)： 気相めっき  (WC08022K) ,  有機化合物のルミネセンス  (BM08094A)

タイトルに関連する用語 (7件)： EL ,  光学技術 ,  Cat-CVD ,  水蒸気 ,  バリア ,  薄膜 ,  低温形成