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J-GLOBAL ID：200902233396781987   整理番号：07A0382848

シリコン酸化膜によるシリコンナノ結晶の二次構造の制御

著者 (5件)： 齋藤恭典 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 量子ナノテク研) ,  杉村陽 (甲南大 理工) ,  杉村陽 (甲南大 量子ナノテク研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 54th  号： 3  ページ： 1209  発行年： 2007年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *パルスレーザ照射 ,...
準シソーラス用語： シリコン基板

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (3件)： シリコン酸化膜 ,  シリコンナノ結晶 ,  二次構造