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J-GLOBAL ID：200902242771875764   整理番号：07A0550075

疎水性・親水性部位を有する含窒素ヘテロ環カルベン配位子の合成と触媒反応への応用

著者 (3件)： 太田英俊 ,  藤原哲晶 ,  辻康之
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 87th  号： 2  ページ： 1014  発行年： 2007年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 疎水性・親水性部位を有するナノサイズ分子触媒は特異な反応場を...

シソーラス用語： *疎水性 ,...
準シソーラス用語： *イミダゾール誘導体

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分類 (2件)： 白金族元素の錯体  (CE01100E) ,  イミダゾール  (CF07083X)

物質索引 (1件)： 1,3-ビス[3,4,5-トリス(ドデシルオキシ)フェニル]-4-イミダゾリン

タイトルに関連する用語 (7件)： 疎水性 ,  親水性 ,  窒素 ,  ヘテロ環 ,  カルベン配位子 ,  触媒反応 ,  応用