抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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パルスレーザアブレーション法は高出力のパルスレーザをターゲットに照射し,ターゲットから放出した原子,分子種(ブルーム)から薄膜を形成する。高温超伝導体薄膜に利用されて脚光を浴び,純度の高いナノ結晶の作成法として用いられ生成機構が研究された。特にガス中ではブルームの発生,ブルームとガスの衝突,ブルームとガスの反応,ナノ結晶または薄膜形成への素過程の解明が材料形成の観点から重要である。レーザのパルス幅が放出種と膜質に影響を与えることが時間的,空間的な発光分析から明らかになり,近年ポンププローブ法によるフェムト秒領域のブルーム観測の研究が報告された。一方超高速XAFS分光法が開発されフェムト秒レーザアブレーション過程の分光測定が可能になった。