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J-GLOBAL ID：200902254895826948   整理番号：03A0504526

水素ガス中でのパルスレーザーアブレーションにより作製されたシリコンナノ粒子の光学特性

著者 (4件)： 牧野俊晴 (甲南大 ハイテクリサーチセ) ,  稲田貢 (甲南大 ハイテクリサーチセ) ,  梅津郁朗 (甲南大 ハイテクリサーチセ) ,  杉村陽 (甲南大 ハイテクリサーチセ)
資料名： ナノ学会大会講演予稿集  (ナノ学会大会)
巻： 2003  ページ： 176  発行年： 2003年05月29日 
JST資料番号： L3641B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (3件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル  (BM08066B)

タイトルに関連する用語 (5件)： 水素ガス ,  パルスレーザーアブレーション ,  作製 ,  シリコンナノ粒子 ,  光学特性