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J-GLOBAL ID：200902261513418280   整理番号：06A0268396

厚膜フォトレジスト層を用いた5mm厚周期分極反転MgO:LiNbO₃の作製

著者 (2件)： 石月秀貴 (分子科研) ,  平等拓範 (分子科研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 53rd  号： 3  ページ： 1260  発行年： 2006年03月22日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *光導波路 ,...

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分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (6件)： 厚膜 ,  フォトレジスト層 ,  厚 ,  周期分極反転 ,  MgO ,  作製