文献

J-GLOBAL ID：200902263487388702   整理番号：09A1139183

表面放電時のスパッタ粒子の挙動に関する研究

Study on Behavior of Sputtered Particles during Surface Discharges

著者 (1件)： SAKODA Tatsuya (Univ. Miyazaki, Miyazaki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 48  号： 10  ページ： 106003.1-106003.4  発行年： 2009年10月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 誘電材料を被覆した電極上に形成したプラズマディスプレイパネル(PDP)様表面放電時のMgO被覆電極からスパッタしたMg原子の挙動を調べるために,MgOからスパッタしたMgと解離したMgの相対密度をレーザ誘起蛍光法を用いて測定した。また,Mg及びMgOに起因した発光を発光分光法により測定した。得られた結果から,MgO被覆電極の周囲に間歇的にスパッタしたMg原子が長時間残り,またO原子と再結合せずにMg原子が存在することを示した。さらに,二次元プラズマシミュレーションコードを用いて数値解析から得た結果は実験結果と一致した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *沿面放電 ,  パネル ,  *酸化マグネシウム ,  *スパッタリング ,  蛍光 ,  発光分光法 ,  プラズマ ,  計算機シミュレーション ,  レーザ誘起蛍光 ,  計算機利用 ,  利用
準シソーラス用語： 表面放電 ,  プラズマディスプレイパネル

分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

引用文献 (8件)：

• S. Hassaballa, K. Tomita, Y. K. Kim, K. Uchino, H. Hatanaka, Y. M. Kim, C. H. Park, and K. Muraoka: Jpn. J. Appl. Phys.44(2005) L442.
• G. Cho, E. H. Choi, Y. G. Kim, D. I. Kim, H. S. Uhm, Y. D. Joo, J. G. Han, M. C. Kim, and J. D. Kim: J. Appl. Phys.87(2000)4113.
• S. E. Lee, H. N. Lee, T. S. Oh, Y. M. Kim, S. K. Kang, D. Y. Park, and Y. S. Kim: Jpn. J. Appl. Phys.44(2005)8646.
• D. K. Lee, C. H. Park, H. J. Lee, J. H. Choi, D. H. Kim, and H. J. Lee: Jpn. J. Appl. Phys.46(2007)1060.
• J. J. Ko, Y. G. Kim, D. I. Kim, C. W. Lee, G. Cho, and E. H. Choi: Jpn. J. Appl. Phys.39(2000)2825.

タイトルに関連する用語 (4件)： 表面放電 ,  スパッタ粒子 ,  挙動 ,  研究