文献

J-GLOBAL ID：200902263840437917   整理番号：06A0639851

オゾンを用いたレジストの酸化分解に関する研究

Development of the resist decomposition using ozone

著者 (1件)： 堀邊英夫 (高知工高専)
資料名： 岩谷直治記念財団研究報告書
巻： 29  ページ： 76-83  発行年： 2006年08月01日 
JST資料番号： Y0533A  ISSN： 0287-3532  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： オゾンとレジストとの反応で生成した酸化物に新たに微量の水分を...

シソーラス用語： *オゾン ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (9件)：

• 斎藤秀一, 湊光朗, “アッシング装置”, 月刊Semiconductor World, 64(1993).
• 石部泰史, 竹森雅史, “枚葉式レジスト剥離装置の開発”, 島田理化技報, No.11, 12(1999).
• S. Noda, M. Miyamoto, H. Horibe, M. Kuzumoto, T. Kataoka, J. Electrochem. Soc., 150(9), 537-542(2003).
• 森永均, ウェット洗浄のメカニズム, 技術情報協会, 933(2000).
• S. Noda, K. Kawase, H. Horibe, M. Kuzumoto, and T. Kataoka, J. Electrochem. Soc., 152(1), G73-G82(2005).

タイトルに関連する用語 (4件)： オゾン ,  レジスト ,  酸化分解 ,  研究