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J-GLOBAL ID：200902271587246193   整理番号：04A0698329

放射光X線回折法による歪みSi/SiGe/Si基板(市販)の格子歪み評価(III)ウエーハ断面のX線回折

著者 (6件)： 冨田直弘 (兵庫県大 院) ,  福田一徳 (兵庫県大 院) ,  津坂佳幸 (兵庫県大 院) ,  篭島靖 (兵庫県大 院) ,  松井純爾 (兵庫県大 院) ,  小椋厚志 (明大 理)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 65th  号： 1  ページ： 322  発行年： 2004年09月01日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *格子歪 ,...

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分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (9件)： 放射光X線回折 ,  歪み ,  Si ,  SiGe ,  Si基板 ,  格子歪み ,  評価 ,  ウエーハ ,  X線回折