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J-GLOBAL ID：200902272915020536   整理番号：06A0752581

窒素ガス中でのシリコンの反応性パルスレーザーアブレーション過程

著者 (5件)： 中山佑介 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (量子ナノテク研) ,  杉村陽 (甲南大 理工) ,  杉村陽 (量子ナノテク研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 67th  号： 3  ページ： 1041  発行年： 2006年08月29日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *レーザアブレーション ,...

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分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 窒素ガス ,  シリコン ,  反応性 ,  パルスレーザーアブレーション ,  過程