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J-GLOBAL ID：200902290359144938   整理番号：09A1003556

レーザーアブレーション過程でのSiナノ結晶の集合体構造の総ガス圧と水素分圧の依存性

著者 (5件)： 大久保旬人 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (量子ナノテク研) ,  杉村陽 (甲南大 理工) ,  杉村陽 (量子ナノテク研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 70th  号： 3  ページ： 1052  発行年： 2009年09月08日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *レーザアブレーション ,  *パルスレーザ照射 ,  *ケイ素 ,  *ナノ結晶 ,  *凝集体 ,  ヘリウム ,  水素 ,  混合気体 ,  プルーム ,  時間発展 ,  結晶構造解析 ,  顕微鏡観察 ,  透過型電子顕微鏡 ,  走査電子顕微鏡 ,  圧力効果 ,  繊維集合体

分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  半導体の結晶成長  (BK13040X)

タイトルに関連する用語 (9件)： レーザーアブレーション ,  過程 ,  Si ,  ナノ結晶 ,  集合体 ,  ガス圧 ,  水素 ,  分圧 ,  依存性