特許
J-GLOBAL ID:200903003895427840
光半導体の光励起に応じて親水化される部材及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小山 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-227055
公開番号(公開出願番号):特開2001-089752
出願日: 1996年06月20日
公開日(公表日): 2001年04月03日
要約:
【要約】【課題】 ゾル塗布焼成法で基材表面に光半導体含有層を形成した場合においても、太陽光、室内照明等の日常よく使用されている光源による光半導体の光励起に応じて10 ゚以下まで親水化されるようにし、かつ他の製法で光半導体含有層を形成した場合における光励起に応じた親水性能の向上が図れるようにした部材を提供すること。【解決手段】 基材表面に、光半導体以外にアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛、アルミニウム、ルテニウム、アルミナ、ジルコニア、セリア、イットリアのうちの少なくとも1種を含む層を形成したことを特徴とする部材。
請求項(抜粋):
基材表面に、光半導体と、それ以外にアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛、アルミニウム、ルテニウム、アルミナ、ジルコニア、セリア、イットリアの1群から選ばれた少なくとも1種を含む層が形成されており、前記光半導体の光励起に応じて部材表面が水との接触角が20度以下まで親水化され、水洗または降雨により表面付着堆積物が洗い流されるようになる防汚性部材。
IPC (5件):
C09K 3/18
, C04B 41/85
, C09D 1/00
, C09D 5/08
, E04B 1/682
FI (5件):
C09K 3/18
, C04B 41/85 Z
, C09D 1/00
, C09D 5/08
, E04B 1/68 L
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開昭63-100042
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特開平4-174679
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光触媒体およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-165836
出願人:石原産業株式会社, 藤嶋昭, 橋本和仁
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