特許
J-GLOBAL ID:200903009629525842
ピエゾ電場の評価方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
青山 葆
, 河宮 治
, 石野 正弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-033306
公開番号(公開出願番号):特開2004-247380
出願日: 2003年02月12日
公開日(公表日): 2004年09月02日
要約:
【課題】PR分光法とは異なる手法により、半導体ヘテロ接合界面のピエゾ電場の非破壊分光測定を行い、ピエゾ電場を解析・評価する方法を提供する。【解決手段】ピエゾ電場の評価方法は、試料に第1の角度で赤外光を照射して第1の吸収スペクトルを測定するステップと、試料に、第1の角度とは異なる第2の角度で赤外光を照射して第2の吸収スペクトルを測定するステップと、測定した第1の吸収スペクトルおよび第2の吸収スペクトルに基づいて、入射光角度依存性のある吸収バンドのピーク位置を特定するステップと、特定されたピーク位置により表される電子エネルギー準位と、ピエゾ電場との関係を表すエネルギー準位式に基づいて、ピエゾ電場の大きさを取得するステップとを有する。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
試料に第1の角度で赤外光を照射して第1の吸収スペクトルを測定するステップと、
前記試料に、第1の角度とは異なる第2の角度で赤外光を照射して第2の吸収スペクトルを測定するステップと、
測定した前記第1の吸収スペクトルおよび前記第2の吸収スペクトルに基づいて、入射光角度依存性のある吸収バンドのピーク位置を特定するステップと、
特定された前記ピーク位置により表される電子エネルギー準位と、ピエゾ電場との関係を表すエネルギー準位式に基づいて、該ピエゾ電場の大きさを取得するステップと
を有する、ピエゾ電場の評価方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/66 L
, G01N21/35 Z
Fターム (18件):
2G059AA03
, 2G059BB08
, 2G059BB16
, 2G059DD13
, 2G059EE01
, 2G059EE12
, 2G059HH01
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ14
, 2G059LL01
, 2G059MM01
, 2G059MM14
, 4M106AA01
, 4M106AA02
, 4M106BA04
, 4M106CA70
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