特許
J-GLOBAL ID：200903011547498450
導電性高分子材料の製造装置及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山野 宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-338178
公開番号（公開出願番号）：特開2000-160393
出願日： 1998年11月27日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：
【要約】【課題】 陽極に絶縁被覆を設けることなく導電性高分子膜を容易に形成できる導電性高分子材料の製造装置と製造方法を提供する。【解決手段】 電解液4を蓄えた電解槽1、陽極2および陰極3を具え、陽極2を電解液4に接触させながら通過することで陽極2の表面に導電性高分子膜12を形成する装置である。陽極2を電解槽1に導入する際、折り曲げ機構7を通すことで陽極2の断面形状を凹型にする。そして、陽極2の一面側のみを電解液4に接触させて導電性高分子膜12を形成する。
請求項（抜粋）：
電解液を蓄えた電解槽、陽極および陰極を具え、前記陽極を電解液に接触させながら通過することで陽極の表面に導電性高分子膜を形成する導電性高分子材料の製造装置において、前記陽極の一面側のみに電解液を接触させる手段を具えることを特徴とする導電性高分子材料の製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
4J032BA03
, 4J032BA08
, 4J032BA09
, 4J032BA13
, 4J032BC24
, 4J032BC25
, 4J032BC26
, 4J032BC29
, 4J032BC32
, 4J032BD09
, 4J032CG01
