特許

J-GLOBAL ID：200903016270896749

マイクロチャンネル内壁面の化学修飾方法

発明者： 北森 武彦 ,  火原 彰秀 ,  上野 雅晴 ,  渡慶次 学
出願人/特許権者： 財団法人神奈川科学技術アカデミー
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-386000
公開番号（公開出願番号）：特開2005-144337
出願日： 2003年11月14日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：

【課題】 塩基性条件下、あるいは酸性条件下等の各種条件下の反応系においても、安定して生成物や沈殿の付着、そしてマイクロチャンネルの閉塞等の不具合を抑えることのできる、マイクロチャンネル内壁の新しい修飾方法を提供する。【解決手段】 基板に形成されたマイクロチャンネル内壁面の化学修飾方法であって、マイクロチャンネル内壁面にラジカル開始剤を固定し、次いでマイクロチャンネル内に重合性モノマー溶液を流して重合性モノマーをラジカル重合させてマイクロチャンネル内壁面に高分子膜を形成する。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板に形成されたマイクロチャンネル内壁面の化学修飾方法であって、マイクロチャンネル内壁面にラジカル開始剤を固定し、次いでマイクロチャンネル内に重合性モノマー溶液を流して重合性モノマーをラジカル重合させてマイクロチャンネル内壁面に高分子膜を形成することを特徴とするマイクロチャンネル内壁面の化学修飾方法。

IPC (6件)：

B01J19/00 ,  C08F2/00 ,  C08F2/01 ,  C08F20/00 ,  C08G69/00 ,  G01N37/00

FI (6件)：

B01J19/00 321 ,  C08F2/00 C ,  C08F2/01 ,  C08F20/00 ,  C08G69/00 ,  G01N37/00 101

Fターム (29件)：

4G075AA02 ,  4G075AA32 ,  4G075AA39 ,  4G075AA52 ,  4G075BA10 ,  4G075CA32 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075FA01 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4J001DA01 ,  4J001DB03 ,  4J001EB09 ,  4J001EC08 ,  4J001FB03 ,  4J001FC03 ,  4J001GA16 ,  4J001GB01 ,  4J001JA20 ,  4J001JC01 ,  4J011CA02 ,  4J011CB00 ,  4J011CC07 ,  4J011CC10 ,  4J100AL08P ,  4J100BB17P ,  4J100FA17 ,  4J100JA15

引用特許：

出願人引用 (1件)

• マイクロチャネル構造体と機能性高分子膜の作製方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2002002475   出願人：財団法人神奈川科学技術アカデミー