エチレンオキシドの製造法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-354084
公開番号（公開出願番号）：特開2001-172272
出願日： 1999年12月14日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】二酸化炭素を高濃度で含む供給ガスを用いて高い選択率でエチレンオキシドを製造する。【解決手段】供給ガスとして、エチレン1〜45%、酸素1〜20%、二酸化炭素15〜75%、メタン及び/又は不活性ガス0〜40%、及び有機ハロゲン化物0.1〜50ppmを含むものを用い、銀触媒の存在下、0.1〜3.5MPaで反応させる。

請求項（抜粋）：

銀触媒が収容されている反応帯域に、エチレン1〜45%、酸素1〜20%、二酸化炭素15〜75%、メタン及び/又は不活性ガス0〜40%、及び有機ハロゲン化物0.1〜50ppmを含むガス混合物を連続的に供給して、0.1〜3.5MPaで反応させてエチレンオキシドを生成させることを特徴とするエチレンオキシドの製造法。

IPC (3件)：

C07D301/10 , B01J 23/66 , C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07D301/10 , B01J 23/66 X , C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-104579
特開昭63-170206
特表平6-500766

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