特許

J-GLOBAL ID：200903022308619876

芳香族ニトリルの低圧水素添加による芳香族第一級アミンの製造方法

発明者： 渕上 高正 ,  高見澤 聡 ,  若狭 のり子
出願人/特許権者： 財団法人相模中央化学研究所
代理人 (1件)： 釜田 淳爾 (外2名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000000586
公開番号（公開出願番号）：WO2000-046179
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2000年08月10日
要約：

【要約】本発明は、非還元性極性溶媒中にニッケルの担持触媒を懸濁させた不均一系で芳香族ニトリルを低水素分圧下に水素添加することを特徴とする芳香族第一級アミンの製造方法を提供する。本発明の方法により、医薬、農薬、染料、界面活性剤、化学薬品等の工業的に有用な芳香族第一級アミンを収率良く製造することができる。

請求項（抜粋）：

非還元性極性溶媒中にニッケルの担持触媒を懸濁させた不均一系で芳香族ニトリルを低水素分圧下に水素添加することを特徴とする芳香族第一級アミンの製造方法

IPC (8件)：

C07C209/48 ,  B01J 23/755 ,  C07C211/27 ,  C07C211/29 ,  C07C213/02 ,  C07C217/58 ,  C07D213/38 ,  C07B 61/00 300

FI (8件)：

C07C209/48 ,  C07C211/27 ,  C07C211/29 ,  C07C213/02 ,  C07C217/58 ,  C07D213/38 ,  C07B 61/00 300 ,  B01J 23/74 321 X