特許
J-GLOBAL ID:200903038938265898
多層流マイクロチャンネルの集積化構造体とこれを用いる多層流操作方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西澤 利夫
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2002000083
公開番号(公開出願番号):WO2003-008981
出願日: 2002年01月10日
公開日(公表日): 2003年01月30日
要約:
流体の界面をともなう並行多層流が形成されるマイクロチャンネルが基板上に複数個所配設されており、この複数の多層流マイクロチャンネルの各々は、別の多層流マイクロチャンネルに連通されていることを特徴とする多層流マイクロチャンネルの集積化構造体とし、高度微量分析や精密化学合成等をマイクロチップ上において、複数の単位操作を連続的操作で高効率で行うことを可能とする、高度に集積化された多層流マイクロチャンネル構造体を提供する。
請求項(抜粋):
流体の界面をともなう並行多層流が形成されるマイクロチャンネルが基板上に複数個所配設されており、この複数の多層流マイクロチャンネルの各々は、別の多層流マイクロチャンネルに連通されていることを特徴とする多層流マイクロチャンネルの集積化構造体。
IPC (3件):
G01N37/00
, G01N31/20
, G01N35/08
FI (4件):
G01N37/00
, G01N37/00 101
, G01N31/20
, G01N35/08 A
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